図解即戦力 半導体プロセスのしくみとビジネスがこれ1冊でしっかりわかる教科書
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お詫びと訂正(正誤表)
本書の以下の部分に誤りがありました。ここに訂正するとともに,ご迷惑をおかけしたことを深くお詫び申し上げます。
(2025年3月17日最終更新)
P.63の「ダブルパターニング(SADP)」の図の⑤と⑥(2箇所)
誤 | SiN |
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正 | Si3N4 |
P.109の「枚葉式」の図
誤 | レーザーアニール |
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正 | レーザアニール |
P.109の「枚葉式」の図
誤 | エキシマレーザー |
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正 | エキシマレーザ |
P.135の「枚葉式クラスタシステムの例」の図
誤 | Foup |
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正 | FOUP |
P.173の「電解めっき法のよるバンプ形成」の図
誤 | 電界めっき法 |
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正 | 電解めっき法 |
(以下2025年2月26日更新)
P.110の下から8行目
誤 | UVLAC |
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正 | ULVAC |